Muestra no conductora
Las muestras destinadas al SEM deben cumplir dos condiciones: deben estar secas y ser conductoras. Una muestra no conductora necesita recubrirse con un material que la haga conductora para inhibir los riesgos de carga y daños térmicos en la muestra. En algunos casos, el recubrimiento metálico delgado también ayuda a mejorar la señal de emisión de electrones secundarios para el examen topográfico en el SEM.
La técnica de recubrimiento más adecuada a utilizar dependerá de las propiedades de la muestra, el tamaño de las estructuras que desea analizar y los métodos necesarios para prepararla para la obtención de imágenes en el microscopio.
Recubrimiento de muestras en bajo vacío
Si una muestra no tiene una conductividad lo suficientemente alta, se puede cubrir rápidamente con una capa conductora de oro u otros materiales adecuados; como platino (Pt) y oro/paladio (Au/Pd), utilizando el método de recubrimiento de pulverización catódica o sputtering (proceso físico en el que se produce la vaporización de los átomos de un material sólido denominado “blanco” mediante el bombardeo de este por iones energéticos), para obtener las mejores condiciones de imagen.
Si se requiere microanálisis por rayos X, se puede utilizar un recubrimiento de evaporador de carbono o de haz de electrones e-beam. Estos recubrimientos protegen la muestra, permiten mejorar el contraste de la imagen.
Recubrimiento de muestras en alto vacío
Sus aplicaciones van más allá de la necesidad de obtener una muestra conductora para el SEM. Consigue recubrimientos de grano mucho más fino y está preparado para realizar “spputtering” con distintos metales. También trabaja por el método de evaporación, con lo que aumenta el rango de posibles elementos de recubrimiento.
Los recubridores de pulverización catódica de alto vacío depositan películas delgadas con una estructura de grano mucho más fina, lo que permite un análisis SEM de alta resolución. Además, se puede pulverizar una gama más amplia de materiales, incluidos metales oxidables. Algunos ejemplos son el iridio (Ir), el tungsteno (W) o el titanio (Ti). En ocasiones, el cromo (Cr) se pulveriza para formar una capa amortiguadora. Además, las recubridoras de alto vacío se pueden configurar para aplicaciones más avanzadas y una deposición multicapa.